HCMRC系列金属带卷绕镀膜设备

采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术、EB-PVD、JVD喷射气相沉积技术及独特设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层、防腐蚀膜层和金属或TCO电极膜层，改善金属卷材表面特性，扩展应用范围。
模块化设计概念，狭缝真空锁阀、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积效率高，镀膜速度快，是大型金属带连续镀膜生产线的最佳选择。

特点

● 狭缝真空锁阀保证带材持续地在大气压与真空环境之间稳定进出
● 等离子体预处理，提高膜层附着力
● 平面或旋转磁控阴极，实现高镀膜率和靶材高利用率，确保长期稳定的生产效率
● 高功率电子束系统，对金属、合金和复合材料进行高速蒸镀，大幅度提高蒸发效率

应用

● 装饰性镀膜：最低的工艺成本让材料表面具有高品质的金属质感，通过材料本征色和干涉颜色形成丰富的颜色。
● 防腐蚀镀膜：采用 PVD 技术在钢带双面镀锌或镁，提高防腐蚀性能。
● 氢燃料电池金属双极板镀膜：采用多种沉积技术，提高抗腐蚀性，减少界面接触阻力，增强电化学稳定性和机械附着力。
● 太阳电池电极镀膜：前电极氧化物膜：TCO (ITO,i-ZnO)；背电极金属膜：Mo，Cr，MoOx，MoNx
● 太阳能集热板镀膜：高效选择性吸收涂层 (蓝膜 / 黑膜)：最大限度吸收太阳辐射能量，并减少辐射热损。